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    電子超純水系統

    產品簡介

    電子超純水系統是專為電子行業生產超高純度水的設備,能為芯片制造、半導體加工等對水質要求高的工藝提供優質水源,去除水中幾乎所有的雜質,滿足精密制造對水質的嚴苛要求。

    產品型號:
    更新時間:2025-05-12
    訪問次數:214
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    以下是電子超純水系統的介紹:

    系統概述

    電子超純水系統是專為電子行業生產超高純度水的設備,能為芯片制造、半導體加工等對水質要求高的工藝提供優質水源,去除水中幾乎所有的雜質,滿足精密制造對水質的嚴苛要求。

    系統構成

    - 預處理系統:包括多介質過濾器去除懸浮物、泥沙等大顆粒雜質;活性炭過濾器吸附余氯、有機物等;精密過濾器攔截更小粒徑的顆粒,保護后續設備。

    - 反滲透系統:利用高壓泵使水通過反滲透膜,去除水中的大部分鹽分、有機物、微生物等,是除鹽的關鍵步驟。

    - 離子交換系統:通常采用混床樹脂,進一步去除水中殘留的微量離子,實現深度除鹽,提高水的純度。

    - 精處理系統:有超濾裝置去除微小顆粒和膠體;紫外線殺菌器殺滅細菌和病毒;拋光混床對水質進行最終的精細處理,確保水質達到超純標準。

    - 供水系統:由超純水儲存罐(氮封水箱)和輸送泵等組成,通過循環管路將超純水穩定地輸送到各個用水點,保證用水的連續性和穩定性。

    系統特點

    - 超高水質:能生產出電阻率高達18MΩ·cm以上的超純水,滿足電子行業嚴格的水質要求。

    - 自動化程度高:采用先進的自動化控制系統,可實現遠程監控、自動調節運行參數、故障報警和診斷等功能,減少人工操作,提高系統運行的可靠性和穩定性。

    - 穩定運行:系統設計合理,關鍵設備采用高品質材料和部件,具備良好的抗腐蝕、抗污染能力,可長期穩定運行,降低維護成本。

    應用領域

    - 半導體制造:用于芯片清洗、光刻、蝕刻等工藝,防止雜質影響芯片性能和成品率。

    - 顯示面板生產:如液晶面板、OLED面板制造中的鍍膜、清洗等工序,保證面板的顯示質量和穩定性。

    - 電子元器件生產:在電容器、電阻器、集成電路封裝等生產過程中,提供高純度的清洗用水和工藝用水。

    核心技術指標

    指標

    半導體行業要求

    技術參數說明

    電阻率

    ≥18.2 MΩ·cm(25℃,SEMI F78)

    動態穩定,波動≤±0.1 MΩ·cm,反映離子含量極低。

    硼離子(B3?)

    ≤0.05 μg/L(ASTM-D5127-13)

    硼為P型摻雜劑,過量會導致n型硅反型,需通過靶向樹脂深度去除至≤1 ppt(部分工藝)。

    總有機碳(TOC)

    ≤5 ppb

    有機物影響半導體材料性能,需185nm波長紫外線+活性炭聯合處理。

    金屬離子

    ≤1 ppt(Na?、K?、Fe3?等)

    堿金屬和重金屬導致PN結失效,通過離子交換樹脂精準控制。

    顆粒污染

    ≤200個/mL(≥0.05μm,SEMI F83)

    亞微米級顆粒需通過超濾+精密過濾去除,防止電路短路。

    微生物

    ≤0.1 CFU/mL

    微生物代謝產物含磷,需紫外線殺菌+0.22μm終端過濾。

    典型工藝

    電子超純水系統

     

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